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ITO粉制作靶材的發展趨勢

點擊次數:   更新時間:17/06/10 09:20:06     來源:www.umri.net關閉分    享:
    隨著LCD技術的發展,對ITO粉的要求也隨之提高。利用ITO粉制作的靶材大致具有如下發展趨勢:
    1、高密度化。靶材密度的改善直接帶來的益處主要表現在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為低密度時,有效濺射表面積會減少,濺射速度也會降低,靶材表面黑化趨勢加劇。
    2、尺寸大型化。隨著液晶模塊產品輕薄化和低價化趨勢的不斷發展,相應的ITO玻璃基板也出現了明顯的大型化的趨勢,因此ITO靶材單片尺寸大型化不可避免。
    3、靶材本體一體化。靶材將朝大面積發展,以往技術能力不足時,必須使用多片靶材拼焊成大面積,但由于接合處會造成鍍膜質量下降,因此目前大多以一體成形為主,以提升鍍膜質量與使用率。
    目前,靶材利用率可達40%,隨著液晶顯示器行業對材料成本要求的提高,提高ITO粉制作靶材的利用率也將是未來的發展方向之一。
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